苏大维格：355nm为iGrapher200设备所使用的光源波长

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8月1日，同花顺金融研究中心报道说，一些投资者问了苏大伟一个问题。你好，秘书长。贵公司官方网站产品展中的光刻机产品“高速激光图形直写设备igraffer 200/igraffer 820”的分辨率达到355纳米。请问这是否是贵公司目前最高的技术水平？最近，据报道，上海微电子开发了28纳米光刻机。你们公司不能在光刻机上有更高水平的研发吗？

该公司答复说，355纳米是igrapher200设备使用的光源波长。据我们所知，您提到的上海微电子研究所开发的28纳米光刻机是一种用于芯片制造的投影光刻机，但我们公司的直写光刻机与用于集成电路的投影光刻机不同。直写式光刻机用于制备微纳实际结构的计算机模型数据文件，属于光刻机在光刻机技术领域的两种不同类型和应用。未来，根据光电产业的发展需要，公司将继续更新和迭代光刻技术和光刻设备。感谢您的关注！

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