本篇文章119字,读完约1分钟
7月14日,一位投资者问了苏大伟一个问题。亲爱的秘书长,公司的光刻机和荷兰asml的光刻机有什么区别?这个过程有多少纳米?
该公司答复说,该公司目前拥有的光刻设备可用于R&D和制造微纳光学材料、柔性电子器件、微机电系统传感器和特定领域的半导体,不涉及R&D和芯片领域的制造。谢谢你的关注,谢谢!
关注财富,获得更多机会
标题:苏大维格:公司不涉及芯片领域的研发与制造
地址:http://www.hellosat.cn/hxzx/4331.html
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