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8月1日,一位投资者问了苏大伟一个问题。你好,董事会秘书。最近,专利代理机构公布了该公司在光刻机、基片光刻机和光刻机基片载体方面的专利。这项专利的主要目的是什么?
该公司答复称,该公司在光刻机布局、衬底光刻和光刻衬底载体方面的专利主要用于在某些特定衬底上进行图形光刻的载体设计。感谢您的关注!
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标题:苏大维格:主要用于在某些特定基片上进行图形光刻而进行的承载台设计
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